数据结构考试题(浙江科技学院)无答案
)次关键码比较。 (A)2 (B)3 (C)4 (D)5 10.设有字符序列{Q、H、C、Y、P、A、M、S、R、D、F、X},问新序列{F、H、C、D、P、A、M、Q、R、S、Y、X}是下列哪个排序算法一趟扫描的结果。(
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②正确;③中,取a克混合物与足量稀硫酸充分反应,逸出气体用碱石灰吸收,增重b克,由于逸出气体中含有H2O,故无法求解;④中由于二者都能与Ba(OH)2溶液反应生成BaCO3沉淀,由Na2CO3→BaC
m7 e0 a8 C. S 策略1、把期望值放到行业发展的趋势去! X7 q5 x- W3 }: h9 Z 考虑你的专业是什么?人才市场对你这类人才的需求有多大?留意一下你周围的人:你的同学、你的
(1)1mol氧 (2)0.25mol CO2 (3)摩尔是七个基本物理量之一 (4) 0.25mol H2中含有3.01×1023个氢分子 (5)3mol NH3中含有3 molN和9molH (6)1mol细菌课堂练习:(×)
(g)+D (g)达到平衡的标志是( ) A.C的生成速率和B的消耗速率相等 B.v正(A)=2v正(B) C.2v正(A)=v逆(B) D.反应混合物中A、B、C、D的质量分数不再发生变化 4.某混合溶液中所含离子的浓度如下表,则M离可能为(
在恒温、恒压的条件下,化学反应过程中所吸收或释放的热量称为反应的焓变。 2、符号:△H 3、单位:kJ·mol-1 4、规定:吸热反应:△H > 0 或者值为“+”,放热反应:△H < 0 或者值为“-” 常见的放热反应和吸热反应 放热反应
Ca(HCO3)2 → CO2 → Al(OH)3 7、Si → SiO2 → Na2SiO3 → H2SiO3 → SiO2 → Si(粗硅) → SiCl4 → Si ( 纯硅)→ SiO2 → SiF4
图1.1 3 二、板的设计(按考虑塑形内力重分布方法计算) 板的厚度按构造要求取h=90mm>≈=77mm; 次梁截面高度取h=500mm>==467mm,截面宽度b=200mm。 荷载计算 恒载标准值
绩效管理的十大困扰 第一大困扰:绩效考评不考评绩效; # t6 N& A/ q5 j/ H& j( N" F# f # ]8 j, A0 s# S( u, U$ U) P 绩效考核到底应该考核什么东西?我这里有一个案例讲给大家听听:
16个经典面试问题回答思路 sS YY‑O WB6X h6B7H!i#[ i:JZg 17HR 人力资源网1r1b DbW'S3Ny*@hg 面试过程中,面试官会向应聘者发问,而应聘者的回答
正确答案:用平行投影的正投影法绘制的多面投影图 5. 一般制图的第一个步骤是( ) 正确答案:绘制图样底稿 6. 投影法中规定,空间点在H面的投影选用字母时应( ) 正确答案:大写字母 7. 中心投影中,在投影中心与投影面距离不变的情况下,形体距投影中心愈远,则影子()
正确答案:用平行投影的正投影法绘制的多面投影图 5. 一般制图的第一个步骤是( ) 正确答案:绘制图样底稿 6. 投影法中规定,空间点在H面的投影选用字母时应( ) 正确答案:大写字母 7. 中心投影中,在投影中心与投影面距离不变的情况下,形体距投影中心愈远,则影子()
集成光驱,软盘驱动器需要选购外接USB软驱 电源 480W全电压范围自适应服务器专业电源、115V/60Hz ,230V /50Hz自适应 认证兼容操作系统 Identifier number Operating
即不是电解质 HCl.HclO 又不是非电解质 发生电离 (2)CO2 碳酸溶液 ↓ ↓ 非电解质 H2CO3电离 (3)Na2O NO2OH溶液 ↓ ↓ 虽不是本身电离子 NaOH电离 但可在熔融态电离,故它属强电解质
时仅加入催化剂,平衡正向移动 D. 达平衡时,仅改变,则为 4.已知反应2H2(g)+CO(g)CH3OH(g)的平衡常数如下表,按照相同的物质的量投料,测得CO在不同温度下的平衡转化率与压强的关系如图所示
spirit:团队精神 appropriate: adj.适当的 refer to:参考 attach: v.附上 arrange: v.安排 万能句型: i am writing to apply for the position
验,我大致列出如下几种电话邀约话术: / {( O; M$ d: I3 }5 O! a9 i 1 H) Y5 w! Q% X' u, F d' r1、针对主管级以下的人员,邀请面试时可以使用如下话术:
GE/4,FE/8每板 路由协议:OSPF、RIP2、IS-IS、BGP4等 支持 网管 支持SNMPV1、V3 支持RMON 可通过HGMP协议管理下挂的华为公司系列交换机 802.1P支持的级数 8 DHCP/DHCP+支持能力
墙体位移与土压力类型 § 2.1概述 22. 静止土压力H+- = H土压力EEpE0Ea- H1~5%1~5%0d =D/H=0 地下室 E=E0地下室侧墙E填土 § 2.1概述 23